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田口 哲
タグチ サトシ TAGUCHI Satoshi 所 属 札幌校 職 名 学長 |
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| 言語種別 | 日本語 |
| 発行・発表の年月 | 2008/06 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Zinc underpotential deposition at Pt(111) and Pt(110) under influence of boric acid and chloride anions |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Russian Journal of Electrochemistry (Elektrokhimiya) |
| 出版社・発行元 | Springer |
| 巻・号・頁 | 44(6),690-696頁 |
| 著者・共著者 | A. A. El-Shafei, Satoshi Taguchi, Akiko Aramata |
| 概要 | 亜鉛のアンダーポテンシャル析出 (Zn UPD)が，さまざまなpHおよび組成の溶液中でサイクリックボルタンメトリーによって研究され，溶液中のホウ酸または塩化物の存在の影響が観察された。 我々は，Pt(111)におけるZn UPDのサイクリックボルタモグラムが，酸性溶液中のホウ酸濃度，亜鉛イオン濃度およびpHに依存することを発見した。これらは，Zn UPD には，H+の放出によるホウ酸塩の吸着の誘導が伴うことを示唆していた。Pt(110)上の前吸着塩化物種は，UPDの直前に除去されることで UPD プロセスを加速する。これらは，アニオンが，それらの異なるが本質的な化学的特性によって，Zn upd層形成プロセスにおいて様々な役割を果たすことを示している。 |
| DOI | http://dx.doi.org/10.1134/S1023193508060098 |