田口 哲
タグチ サトシ TAGUCHI Satoshi 所 属 札幌校 職 名 学長 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 1998/11 |
形態種別 | 学術雑誌 |
査読 | 査読あり |
標題 | Underpotential deposition of zinc ions at single crystal electrodes and the effect of the adsorbed anions. |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Electrochimica Acta |
出版社・発行元 | Elsevier, The International Society of Electrochemistry (ISE) |
巻・号・頁 | 44(6-7),pp.999-1007 |
著者・共著者 | A. Aramata, S. Taguchi, T. Fukuda, M. Nakamura and G. Horanyi |
概要 | Pt(111)およびAu(111)上のZn2+イオンのアンダーポテンシャル析出 (upd) は,アニオンの吸着/脱離プロセスの観点から焦点が当てられた。なぜなら,Zn upd過程は陰イオンの様々な影響を受け,更にその特性は,AuとPtの間で異なるためである。 その違いは,upd 領域における仕事関数,ゼロ電荷電位 (pzc)および 事前吸着アニオンの有無によって議論することで,明確に示された。pH 4.6のリン酸塩溶液中のPt(111)における前吸着アニオンとupd Znの速度論の一致が,ラングミュア型のランダム吸着/脱着によって議論された。同じ溶液中のAu(111)上のZn updの場合,核生成-成長型による二次元相形成/脱着が結論された。この場合,Zn updの開始電位には前吸着アニオンが存在しないため, 吸着アニオンによるZn updの促進効果はない。ただし,pzcの位置はupd開始ポテンシャルよりもプラスのポテンシャルにあると予想できる;Zn2+に対する静電相互作用は電極への引力であり,それは,横方向相互作用による二次元upd相形成に関する核生成成長メカニズムをアシストすることが議論される。 我々は,Zn updプロセスを用いて,upd 現象一般を理解しようと試みた。 |
DOI | http://dx.doi.org/10.1016/S0013-4686(98)00204-7 |